Aký je špecifický proces výpalu žiaruvzdorné tehly?

Proces vypaľovania žiaruvzdorných tehál je hlavne proces kontinuálnej dehydratácie a rozkladu kaolínu za vzniku kryštálov mullitu (3Al2O3·2SiO2). SiO2 a Al2O3 v žiaruvzdornej tehle tvoria počas procesu vypaľovania eutektický silikát s nízkou teplotou topenia s nečistotami, ktorý obklopuje kryštály mullitu. Najvyššia teplota počas procesu vypaľovania je vo všeobecnosti regulovaná na 1350 °C až 1380 °C. Ak sa teplota výpalu nízkopórovitých hlinených tehál primerane zvýši (1420°C), zmršťovanie žiaruvzdorných tehál sa mierne zvýši, takže hustota žiaruvzdorných tehál sa mierne zvýši a dá sa dosiahnuť nízka pórovitosť. znížiť.