Tanuru ya kuingiza plasma

Mbali na aina mbalimbali zilizotajwa hapo juu za tanuu za induction, pia kuna plasma tanuu za induction na tanuu za kuingizwa kwa electroslag. Tanuru ya kuingiza plasma ni aina ya vifaa vya kuyeyusha ambavyo vilionekana katika miaka ya 1970. Ni mchanganyiko wa tanuru ya kawaida ya induction na kifaa cha kupokanzwa arc ya plasma. Tanuru ya uingizaji wa mzunguko wa kati ina vifaa vya shell iliyofungwa ya tanuru, au juu iliyotiwa muhuri huongezwa kwa ond. Jalada lina bunduki ya plasma, na chini ya Tansuo ina elektrodi ya chini, kama inavyoonyeshwa kwenye Mchoro 2-1.

Mbali na usambazaji wa umeme wa tanuru ya induction, ugavi wa umeme pia una umeme wa plasma arc. Tanuru za uwezo mdogo zina tu coil za kupokanzwa kwa induction, na tanuu za uwezo mkubwa ni pamoja na kupokanzwa kwa induction na coils za kuchochea. Sahani ya chini ya kitabu cha ardhi kina vifaa vya anode iliyopozwa na maji, na kuna shimo katikati ya kifuniko cha tanuru kwa mwili wa bunduki ya plasma kupanua ndani ya tanuru (bunduki ya plasma imegawanywa katika aina mbili: DC na AC). Mwili wa bunduki na kifuniko cha tanuru lazima iwe muhuri na kilichopozwa na maji. Kifuniko cha tanuru kina hopper ya malipo na dirisha la uchunguzi. Muundo wa shell ya tanuru umegawanywa katika aina mbili: imefungwa kikamilifu na nusu iliyofungwa.

Katika smelting ya kawaida ya tanuru ya induction, slag inapokanzwa na chuma kilichoyeyuka, na joto la slag ni la chini kuliko ile ya chuma iliyoyeyuka, hivyo uwezo wa kusafisha slag ni mdogo. Arc ya plasma inaweza joto la slag, kushinda mapungufu ya joto la chini la slag ya kawaida ya induction, na kuziba kwa tanuru ya induction ya plasma inaweza kuunda hali ya kinga, kwa hiyo, inaweza kuboresha kwa kiasi kikubwa uwezo wa kusafisha wa slag. Tanuru ya kuingiza plasma inaweza kutumika kuyeyusha chuma cha pua cha chini zaidi cha kaboni, aloi nzuri ya kuziba na vifaa vingine, na ubora wake hufikia au kukaribia kiwango cha tanuru ya utupu ya arc ya umeme.

Kielelezo 2-1 tanuru ya uingizaji wa Plasma

1 bunduki ya plasma; 2 – shimo la uchunguzi; 3 – sehemu ya chuma; 4 – sensor;