- 27
- Dec
Production process of high temperature resistant mica board
Produktionsprocess av högtemperaturbeständig glimmerskiva
Den höga temperaturbeständiga glimmerskivan tillverkas genom att limma, värma och pressa glimmerpapper och organiskt silikagelvatten. Glimmerhalten är cirka 90 % och den organiska kiselgelvattenhalten är 10 %. Den huvudsakliga produktionsprocessen är som följer:
1. Välj glimmerfragment eller pulveriserat glimmer och skölj dem för senare användning;
2. Använd en dokumentförstörare för att krossa det uppsamlade avfallspapperet av glimmergummi;
3. Rör om och blanda jämnt det krossade glimmeravfallet, glimmerfragmenten eller pulvret och lim i en viss proportion för att få en blandning;
4. Grädda den homogena blandningen vid 240±10°C till halvtorr;
5. Press, pour the semi-dried mixture evenly into the pre-installed mold, pave and flatten it and place it with glass fiber cloth, thin iron plate, and backing plate in sequence, push it into the press and use the same as the mixture Continue to bake at the same temperature, bake for 5 minutes and release the pressure and exhaust once. After each exhaust, press and bake on the previous pressure, and gradually increase the pressure to 40 Mpa.